湖北五德化工實業有限公司
H3PO4
主要用于半導體晶圓蝕刻,去除氮化硅層結構和清洗作用。
20L、200L、IBC噸桶以及槽車包裝
手機版網站
湖北五德化工實業有限公司 (C)2021 網絡支持 中國化工網 全球化工網 生意寶 網盛建站 著作權聲明 備案號:鄂ICP備2021002267號